(相關資料圖)
3月9日上午，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）發布聲明表示，ASML預計必須申請許可證方可出口DUV設備。同時公司還表示“新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統，先進程度相對較低的浸潤式光刻系統已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求?！焙商m政府在3月8日表示，計劃對半導體技術出口實施新的管制。據悉，決定是由荷蘭貿易部長Liesje Schreinemacher在致荷蘭議會的一封信中宣布的。信中稱，這些管制措施將在今天夏天之前開始實施。信中還指出“荷蘭認為有必要以最快的速度對這項技術進行監管，因此荷蘭政府將會盡快出臺一份國家管控清單”。（第一財經）
關鍵詞：
責任編輯：QL0009
